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Travail sur un procédé produisant des films minces de nitrure
de silicium à faible contrainte mécanique pour des procédés utilisant le HF
vapeur sur ses micro-structures MEMS.
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Travail sur un procédé produisant des films minces de
silicium dopé à faible contrainte mécanique et à faible gradient de
contrainte pour produire des micro-structures MEMS.
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Travail sur un procédé d’intégration 3D.
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Travail utilisant une technique assistée par plasma.
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Travail sur une technique assistée par le photo-polymère.
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Travail sur une technique assistée par les micro-soudures.
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Travail sur une technique assistée par des verres
inorganiques.
